PVD真空镀膜阴极磁控溅射多弧靶屏蔽罩
授权
摘要
本实用新型公开了PVD真空镀膜阴极磁控溅射多弧靶屏蔽罩，包括金属导电层、散热层、塑料导电层、绝缘层、安装层和阴极磁控溅射多弧靶，所述金属导电层内设置有散热层，所述散热层内设置有塑料导电层，所述塑料导电层内设置有绝缘层，所述绝缘层内固定连接有安装层，所述安装层内滑动连接有阴极磁控溅射多弧靶。本实用新型设置有安装层和金属导电层，使装置结构简单合理，安装简易，耐用，同时塑料导电层为有机硅板，可使装置价格低、强度高、韧性好；本实用新型设置有散热层和绝缘层，散热层为铝合金散热片，使其发出的热量更有效地传导到散热片上，再经散热片散发到周围空气中去，同时绝缘层为有机硅板，保证靶材的绝缘性。
基本信息
专利标题 ：
PVD真空镀膜阴极磁控溅射多弧靶屏蔽罩
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021905463.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-02
授权号 ：
CN213388872U
授权日 ：
2021-06-08
发明人 ：
乔利杰宋述兵王瑞俊王博
申请人 ：
山东司莱美克新材料科技有限公司
申请人地址 ：
山东省淄博市桓台县果里镇创智谷B5一层
代理机构 ：
淄博市众朗知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
程强强
优先权 ：
CN202021905463.X
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 B32B15/20 B32B15/04 B32B9/00 B32B9/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2021-06-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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