一种真空镀膜用旋转阴极
授权
摘要
本实用新型公开了一种真空镀膜用旋转阴极，安装座、外接管、内接管和固定座，所述外接管一端与安装座旋转连接，另一端经一靶管与固定座旋转连接，所述内接管一端固定在安装座上，另一端经一芯管与固定座连接，所述内接管位于外接管内，芯管位于靶管内，内接管和芯管导通，所述芯管与靶管之间还设置有螺旋桨。本实用新型具有的优点是在芯管和靶管的连接拐点处，设置了一个螺旋桨，该螺旋桨由靶管带动一起旋转，形成一个吸力，将该处的水快速地抽出，加快了水流的整体速度，提高了对靶管的冷却效果，并且还避免水流在该处积压，对该处的结构造成巨大压力，从而破坏该处的连接结构，避免出现冷却水泄漏的可能性。
基本信息
专利标题 ：
一种真空镀膜用旋转阴极
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021892277.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-02
授权号 ：
CN213113476U
授权日 ：
2021-05-04
发明人 ：
李忠
申请人 ：
成都齐荣科技有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市经济技术开发区(龙泉驿区)星光西路24号实德工业园
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021892277.7
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2021-05-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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