真空镀膜用旋转掩膜装置
专利权的终止
摘要

一种真空镀膜用旋转掩膜装置包括基片架、掩膜板,基片架上开有放置所需镀膜基片用的基片槽,基片架套在转轴上,转轴的一端端部与掩膜板固接,掩膜板上设有定位孔和挡板,挡板可遮盖基片架上的基片槽,转轴上还套有固定钢柱,固定钢柱与基片架固定在一起,转轴与固定钢柱之间设有滚珠,使转轴可在固定钢柱内转动,固定钢柱上设轴向的通孔,通孔的位置与掩膜板上的定位孔相匹配,固定钢柱与掩膜板之间设有定位圆珠,定位圆珠卡在定位孔与固定钢柱的通孔间,通孔的另一端设置紧固螺栓,通孔内放置弹簧,紧固螺栓使通孔内的弹簧挤压定位圆珠。本实用新型的真空镀膜用旋转掩膜装置具有手感强、操作简便,不影响真空度及制造方便的特点。

基本信息
专利标题 :
真空镀膜用旋转掩膜装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200620097014.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2006-05-30
授权号 :
CN2915882Y
授权日 :
2007-06-27
发明人 :
高希存
申请人 :
南昌大学
申请人地址 :
330047江西省南昌市南京东路235号南昌大学理学院
代理机构 :
江西省专利事务所
代理人 :
黄新平
优先权 :
CN200620097014.0
主分类号 :
C23C14/04
IPC分类号 :
C23C14/04  C23C14/24  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物
法律状态
2010-09-01 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101005248968
IPC(主分类) : C23C 14/04
专利号 : ZL2006200970140
申请日 : 20060530
授权公告日 : 20070627
2007-06-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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