一种真空镀膜旋转装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种真空镀膜旋转装置，包括真空镀膜机本体，所述真空镀膜机本体内部上端通过转轴活动设置有功能仓，所述功能仓下端均匀固定设置有若干立柱，所述立柱内部设置有卡合机构，所述卡合机构包括传动杆、横杆、第一连接块、第二连接块、连接杆，所述立柱内侧中部活动穿插设置有传动杆，所述立柱内部两侧侧壁均匀活动穿插设置有若干横杆，若干所述横杆靠近传动杆的一端固定设置有第一连接块，所述传动杆外侧表面均匀固定设置有若干第二连接块，所述第一连接块内侧通过转轴活动设置有连接杆。本实用新型使用效果好，可以方便固定住一些挂钩无法悬挂的物件，进行镀膜，同时装置的卡合过程较为方便无需将物件一个一个挨个进行卡合。
基本信息
专利标题 ：
一种真空镀膜旋转装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020323987.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-16
授权号 ：
CN211972434U
授权日 ：
2020-11-20
发明人 ：
杨林生
申请人 ：
合肥聚盛真空科技有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市经开区紫云路方兴园
代理机构 ：
浙江专橙律师事务所
代理人 ：
邢万里
优先权 ：
CN202020323987.1
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2020-11-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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