一种旋转式真空镀膜装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种旋转式真空镀膜装置，包括真空壳体，所述真空壳体为中空结构，所述真空壳体的上端与外部连通的通孔，且真空壳体的上端设有与通孔匹配设置的封盖，所述封盖的下侧侧壁固定连接有镀板固定装置，所述真空壳体的两侧均设有抽真空装置，所述真空壳体的底壁上设有镀料气化装置，且镀料气化装置位于镀板固定装置的正下方。本实用新型能够在一定范围内对不同大小厚度的镀板进行镀膜，适用性强，便于对镀板进行真空镀膜。
基本信息
专利标题 ：
一种旋转式真空镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920628453.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-05
授权号 ：
CN209974880U
授权日 ：
2020-01-21
发明人 ：
陈开龙
申请人 ：
深圳市沃克力技术有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙岗区平湖街道平安大道33号澳佳工业园区3栋1楼
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201920628453.7
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50 C23C14/22 C23C16/458 C23C16/44 C23C14/56 C23C16/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2020-01-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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