一种真空镀膜设备用可旋转倾斜样品台
授权
摘要
本实用新型公开了一种真空镀膜设备用可旋转倾斜样品台，不锈钢壳体内设置有样品台、旋转轴和电机，用于装载样品的样品台设置在旋转轴的上端，旋转轴的下端与电机的转轴相连接；不锈钢壳体的外侧壁上还设置有倾斜转轴，倾斜转轴的一端伸入不锈钢壳体内部，电机安装在不锈钢壳体内部的倾斜转轴上；由于将装载样品的样品台设置在可倾斜的旋转轴上，利用其与溅射头形成一定角度的倾斜，再配合旋转轴自身的旋转，使得凹凸不平的非导电样品上的任何地方都可以镀上一层均匀的导电膜，且膜层厚度一致，克服了现有的真空镀膜设备及其配套装置仍然的局限性，不仅适合真空镀膜上表面平整的非导电样品，而且更加适合真空镀膜上表面凹凸不平的非导电样品。
基本信息
专利标题 ：
一种真空镀膜设备用可旋转倾斜样品台
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122501290.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-18
授权号 ：
CN216192671U
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
陈秋平岳霞胡孙林谭晓辉莫玉叶杜思昊梁剑航卢雯惠
申请人 ：
广州竞赢科学仪器有限公司;南方医科大学;深圳美恩美科技有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市天河区燕岭路25号1009房
代理机构 ：
广州市深研专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
姜若天
优先权 ：
CN202122501290.6
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2022-04-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
