本实用新型涉及磁控溅射靶材技术领域，且公开了一种磁材镀膜装置的旋转靶材，包括第一靶材，第一靶材的右侧固定连接有第二靶材，第二靶材的右侧固定连接有第三靶材，第一靶材、第二靶材和第三靶材的底部活动连接有基座，基座顶部的两侧均开设有第一长槽，两个第一长槽内部的一侧均活动连接有L形板，L形板的数量为四个，且两个L形板为一组，两个L形板的底端均通过第一长槽活动套装于基座的内部。该磁材镀膜装置的旋转靶材，通过第一靶材、第二靶材和第三靶材之间的配合设置，同时通过靶材之间的四十五度斜角拼接技术，能够有效防止镀膜过程时出现整条缝隙没有靶材的现象，能够有效避免靶材提前损耗，从而提高靶材的利用率。