一种旋转靶材制备装置
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摘要
本实用新型属于旋转靶材技术领域，且公开了一种旋转靶材制备装置，包括箱体，所述箱体的底部安装有支撑柱，且箱体的一侧固定有控制器，所述箱体的侧壁安装有密闭箱门，且箱体的一侧靠近控制器的下方通过螺栓固定连接有电机，所述电机的输出轴延伸至箱体内部的一端通过螺纹连接有空心管，所述空心管的外壁安装有靶材管材，所述密闭箱门的内部顶端安装有两个固定板，本实用新型通过液压缸伸缩带动滑套使其在滑杆上滑动，而后滑套带动高压喷头沿着滑杆做往返运动，从而使材料均匀喷涂在靶材管材上，同时通过电机带动空心管转动，然后使空心管带动其外壁的靶材管材转动，从而能够全方面进行喷涂。
基本信息
专利标题 ：
一种旋转靶材制备装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921647156.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-29
授权号 ：
CN210711719U
授权日 ：
2020-06-09
发明人 ：
胡茂横
申请人 ：
深圳恒泰克科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市坪山区坑梓街道办事处秀新社区锦绣中路14号深福保现代光学厂区一期厂房103C区
代理机构 ：
深圳市中科创为专利代理有限公司
代理人 ：
彭西洋
优先权 ：
CN201921647156.3
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 C23C14/35 C23C14/50 C23C14/52
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2020-06-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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