一种旋转钼靶材的制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明提供了一种旋转钼靶材的制备方法，先将钼粉进行冷等静压，得到钼坯料；再将所述钼坯料进行车削，得到精加工钼粉；最后将所述精加工钼粉依次进行真空脱气和热等静压，得到旋转钼靶材；本发明所述制备方法制得的旋转钼靶材致密度高，同时材料利用率高；且操作简便，生产成本低。
基本信息
专利标题 ：
一种旋转钼靶材的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114481056A
申请号 ：
CN202210134139.X
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2022-02-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
姚力军潘杰边逸军王学泽黄洁文吴东青
申请人 ：
宁波江丰电子材料股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路
代理机构 ：
北京远智汇知识产权代理有限公司
代理人 ：
牛海燕
优先权 ：
CN202210134139.X
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 B22F3/04 B22F3/15 B22F3/16 B22F5/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/34
申请日 : 20220214
申请日 : 20220214
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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