一种镀膜用靶材及其制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明涉及合金靶材技术领域，尤其涉及一种镀膜用靶材及其制备方法。将铜、镍和钛原料混合，真空熔炼后浇铸，进行均匀退火，然后塑形变形加工，进行再结晶退火，进行机加工和表面打磨后即得所述镀膜用靶材。该靶材微观元素分布均匀、晶粒均匀细小，并且具有良好的耐腐蚀性和低电阻率，能够满足特殊被动元器件镀膜需求。
基本信息
专利标题 ：
一种镀膜用靶材及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114381631A
申请号 ：
CN202210032700.3
公开（公告）日 ：
2022-04-22
申请日 ：
2022-01-12
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
周贤界熊汉青卢晓鹏黄勇彪
申请人 ：
深圳市众诚达应用材料科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市光明区公明街道下村社区第二工业区16号一层
代理机构 ：
北京正和明知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
孙晟
优先权 ：
CN202210032700.3
主分类号 ：
C22C9/06
IPC分类号 ：
C22C9/06 C22C1/03 C22F1/08 C22F1/02 C23C14/34 C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C22
冶金；黑色或有色金属合金；合金或有色金属的处理
C22C
合金
C22C9/00
铜基合金
C22C9/06
镍或钴作次主要成分的
法律状态
2022-05-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C22C 9/06
申请日 : 20220112
申请日 : 20220112
2022-04-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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