多弧离子镀膜靶材
授权
摘要
本实用新型属于多弧离子镀膜技术领域，尤其为多弧离子镀膜靶材，包括底座、定位槽和顶板，所述底座的底端表面贴合有防腐涂层，所述定位槽的内部安装有凸块，所述顶板的底端表面连接有延伸块，所述延伸块的右侧设置有卡槽，所述顶板的表面固定有铆钉，所述外壳的外部设置有外螺纹。该多弧离子镀膜靶材通过顶板、铆钉、外壳和外螺纹的设置，顶板通过三个铆钉和凸块之间的配合与底座固定连接，而外壳对顶板的外部表面进行遮挡，使外部作用力不会直接作用到顶板上，同时也能够对铆钉进行遮挡，使镀膜靶材更加美观，通过外壳外部的外螺纹能够将镀膜靶材与合适的设备进行连接，现有的镀膜靶材是直接把铜焊上去，易损坏材料，该镀膜靶材解决了这一情况。
基本信息
专利标题 ：
多弧离子镀膜靶材
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020535275.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-13
授权号 ：
CN211897089U
授权日 ：
2020-11-10
发明人 ：
杨小岗
申请人 ：
陕西欧凯利靶材股份有限公司
申请人地址 ：
陕西省宝鸡市高新开发区八鱼镇姬家殿村八组
代理机构 ：
西安知诚思迈知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
麦春明
优先权 ：
CN202020535275.6
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2020-11-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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