一种可均匀镀膜的靶材装置，包括：一安装于一溅镀设备中的遮蔽盒，及一安装于遮蔽盒中的靶材。该遮蔽盒具有一遮蔽板，该遮蔽板上具有一上下延伸的长槽孔，且该长槽孔的上下两端宽度大于中央部位的宽度。该靶材安装于该遮蔽盒中，靶材显露遮蔽盒外的面积也是呈两端宽度大于中央部位宽度的形状。本实用新型靶材装置借由该遮蔽盒的遮蔽板遮盖该靶材，使靶材受气体离子撞击时，降低中央部位受撞击的次数与频率，使整体靶材上下两端与中央部位受撞击的次数较为平均，致使溅镀于所述基板上的薄膜厚度较为均匀。