一种精密金属制品镀膜用靶材加热装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种精密金属制品镀膜用靶材加热装置，包括箱体和箱盖，所述箱体下端安装有支脚，所述箱体上端安装有箱盖，所述箱体内部两侧均安装有支撑板，所述支撑板上表面背离箱体的一侧安装有插销，所述插销上端设置有放置板，所述放置板上表面安装有固定件，所述固定件背离加热环的一侧设置有移动件，所述箱体内部下方安装有齿条。本实用新型是一种精密金属制品镀膜用靶材加热装置，能够同时将多个待镀膜的靶材放置在放置板上，进入到箱体内部进行加热，以方便后续的镀膜工作的进行，通过加热环进行加热，能够使所有的待镀膜靶材受热更加均匀，更加利于后续的镀膜工作。
基本信息
专利标题 ：
一种精密金属制品镀膜用靶材加热装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021178917.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-23
授权号 ：
CN213739648U
授权日 ：
2021-07-20
发明人 ：
赵彪
申请人 ：
东莞市鑫淼真空科技有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市长安镇乌沙社区海滨路81号4楼
代理机构 ：
东莞市神州众达专利商标事务所(普通合伙)
代理人 ：
周松强
优先权 ：
CN202021178917.8
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2021-07-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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