靶材制作装置
专利申请权、专利权的转移
摘要

本申请提供一种靶材制作装置,包括熔炼室和设置在所述熔炼室一侧的雾化室,所述熔炼室设有导流管,所述导流管一端由熔炼室通入熔融的靶材原料,所述导流管另一端延伸到雾化室内,所述雾化室内固设有靶材固定件,所述导流管朝向所述靶材固定件方向,所述导流管外侧套设有雾化喷盘,所述雾化喷盘与外界惰性气体气源连通。本申请中,采用雾化喷盘与导流管配合构成二流体结构将靶材熔液雾化,成型的金属颗粒被高速气流加速后撞击靶材衬底并沉积在上面,形成靶材,生产效率高,生产工序少,靶材原料利用率高。

基本信息
专利标题 :
靶材制作装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920619710.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-04-30
授权号 :
CN210420135U
授权日 :
2020-04-28
发明人 :
张蛟周维国徐国军万捷
申请人 :
领凡新能源科技(北京)有限公司
申请人地址 :
北京市怀柔区雁栖经济开发区乐园大街38号
代理机构 :
北京智晨知识产权代理有限公司
代理人 :
张婧
优先权 :
CN201920619710.0
主分类号 :
C23C14/34
IPC分类号 :
C23C14/34  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2021-11-26 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : C23C 14/34
登记生效日 : 20211112
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 领凡新能源科技(北京)有限公司
变更后权利人 : 东君新能源有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 101407 北京市怀柔区雁栖经济开发区乐园大街38号
变更后权利人 : 101499 北京市怀柔区雁栖经济开发区雁栖大街31号
2020-04-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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