靶材背板
授权
摘要
本实用新型公开了一种靶材背板，包括：背板主体，正面设置有靶材，背面设置有流道，所述流道具有进液口和出液口，所述流道可供冷却液流动；盖板，设置于所述背板主体的背面并遮盖所述流道；密封圈，设置于所述盖板与所述流道之间，用于密封所述流道。使用时，可将靶材设置于背板主体的正面，使冷却液可从位于背板主体背面的流道进液口流入，从出液口流出，冷却液可将位于背板主体正面的靶材的热量带走，从而降低靶材在溅射镀膜过程中的温度，进而可提升镀膜质量。此外，设置于盖板与流道之间的密封圈可对流道起到密封作用。
基本信息
专利标题 ：
靶材背板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022456979.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-29
授权号 ：
CN213835519U
授权日 ：
2021-07-30
发明人 ：
周磊窦沛静张竞中
申请人 ：
珠海和泽科技有限公司
申请人地址 ：
广东省珠海市金湾区联港工业区双林片区虹辉5路7号厂房3栋第一层
代理机构 ：
广州嘉权专利商标事务所有限公司
代理人 ：
张龙哺
优先权 ：
CN202022456979.7
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 B23P15/00
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2021-07-30 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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