一种真空离子镀膜靶材用冷水背板
授权
摘要

本实用新型公开了一种真空离子镀膜靶材用冷水背板,涉及镀膜靶材领域,为解决现有技术中的真空离子镀膜靶材固定背板无法适应不同的镀膜靶材,不方便安装,影响工作效率的问题。所述冷水背板主体的一侧设置有连接板,所述连接板与冷水背板主体之间设置有缺口,所述冷水背板主体的一侧设置有滑动冷却板,所述滑动冷却板的一端延伸至冷水背板主体内部与冷水背板主体滑动连接,所述冷水背板主体的后端安装有冷却水箱,所述冷却水箱的内部中间安装有电动马达,所述电动马达的一端安装有螺纹杆,所述螺纹杆的一端穿过冷水背板主体延伸至滑动冷却板内部与滑动冷却板螺纹连接,所述冷水背板主体的外部两侧均设置有滑槽,所述滑槽的外部安装有弹簧按钮。

基本信息
专利标题 :
一种真空离子镀膜靶材用冷水背板
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122612063.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-10-28
授权号 :
CN216192666U
授权日 :
2022-04-05
发明人 :
任文斌
申请人 :
苏州康普雷森精密机械有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市相城区望亭镇迎湖村迎湖村路15号
代理机构 :
苏州铭浩知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
季栋林
优先权 :
CN202122612063.0
主分类号 :
C23C14/32
IPC分类号 :
C23C14/32  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法;蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2022-04-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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