溅镀靶材和溅镀靶
授权
摘要
本发明的一实施方式为一种溅镀靶材，其包含锌(Zn)的氧化物、锡(Sn)的氧化物及锆(Zr)的氧化物，其中相对于氧(O)以外的所有元素，锌的含量AZn为超过0at％且50at％以下，锡的含量ASn为20at％以上且80at％以下，及锆的含量AZr为超过0at％且40at％以下，而且Zn的含量AZn满足下述式(1)；经测定的多个比电阻值中最大值相对于最小值的比为3以下，及所述比电阻值为5×10‑1[Ω·cm]以下；而且所述溅镀靶材不含有铟(In)。AZn/(AZn+ASn)≦0.6·····(1)。
基本信息
专利标题 ：
溅镀靶材和溅镀靶
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111465713A
申请号 ：
CN201980006346.3
公开（公告）日 ：
2020-07-28
申请日 ：
2019-02-12
授权号 ：
CN111465713B
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
田尾幸树畠英雄
申请人 ：
株式会社钢臂功科研
申请人地址 ：
日本兵库县神户市中央区胁浜海岸通1丁目5番1号
代理机构 ：
北京同立钧成知识产权代理有限公司
代理人 ：
杨贝贝
优先权 ：
CN201980006346.3
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 C01G25/00 C04B35/457 G11B7/2578 G11B7/26
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2022-05-03 ：
授权
2020-08-21 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/34
申请日 : 20190212
申请日 : 20190212
2020-07-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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