清洁短路后的溅镀室高压阴极的方法和装置
被视为撤回的申请
摘要
本发明涉及清除溅镀室内溅镀阴极上的短路积物，在正常时由DC电源提供足能产生和维持溅镀等离子体的电能，清除短路积物时，首先中断接到被短路的阴极上的该DC电源(60)，然后用辅助电源(72)供电，该电能足能蒸发该短路积物，但不足以激励溅镀等离子体。造成短路的积物被清除后，辅助电源被切断，恢复接通DC电源。
基本信息
专利标题 ：
清洁短路后的溅镀室高压阴极的方法和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN86105616A
申请号 ：
CN86105616
公开（公告）日 ：
1987-04-22
申请日 ：
1986-07-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
克伦斯·加里·费弗尔
申请人 ：
西屋电气公司
申请人地址 ：
美国宾夕法尼亚州15222
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
范本国
优先权 ：
CN86105616
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
1989-06-14 ：
被视为撤回的申请
1987-04-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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