真空溅镀机的阴极构造

专利权的终止

摘要

本实用新型涉及一种真空溅镀机的阴极构造，包含：辅助磁场产生装置，其与真空溅镀机的机架机械性连接，可产生辅助磁场；靶材，其与电场阴极相接并具有内侧面与外侧面，所述内侧面朝向所述辅助磁场产生装置，所述外侧面朝向真空溅镀机的轰击带电粒子；及干扰磁性片，位于所述靶材与辅助磁场产生装置之间。本实用新型的有益效果为：在相同溅镀条件下，靶材寿命可以增加50-200％，在降低成本上有很大效果；除了靶材寿命增加降低成本外，使得产品品质与稼动率上有很大改善，约可以再增加产值15％。

基本信息

专利标题：

真空溅镀机的阴极构造

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820135886.0

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-10-10

授权号：

CN201301337Y

授权日：

2009-09-02

发明人：

刘辛

申请人：

苏州凡特真空溅镀科技有限公司

申请人地址：

215000江苏省苏州市高新区浒墅关镇嵩山路128号

代理机构：

代理人：

优先权：

CN200820135886.0

主分类号：

C23C14/34

IPC分类号：

C23C14/34