溅镀阴极的磁场移动机构
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摘要
本实用新型涉及磁控溅镀设备领域，具体涉及溅镀阴极的磁场移动机构，包括：驱动电机、通过联轴器与驱动电机连接的主动偏心轴、从动偏心轴、溅镀阴极和溅镀靶材；所述溅镀阴极包括槽体、通过螺丝盖设固定在槽体上槽体上盖，以及设置在所述槽体和槽体上盖围成的内腔中的磁铁固定座、内排磁铁和外排磁铁；采用本实用新型，驱动电机作为动力，联轴器缓冲驱动电机的输出，将扭力平稳输出至主动偏心轮，配合从动偏心轮使得磁铁固定板可以在槽体和槽体上盖形成的内腔中，水平偏心运动，固定在磁铁固定板上的内排磁铁和外排磁铁的封闭磁感线范围，得到进一步扩大使靶材利用率更高。
基本信息
专利标题 ：
溅镀阴极的磁场移动机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020689901.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-29
授权号 ：
CN212560423U
授权日 ：
2021-02-19
发明人 ：
游秀屏游敬峰
申请人 ：
柏霆（苏州）光电科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市苏州高新区木桥街1号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020689901.7
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2021-02-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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