一种可适时调节磁场角度的孪生旋转溅射阴极装置
授权
摘要
本实用新型涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种可适时调节磁场角度的孪生旋转溅射阴极装置，其特征在于：包括外部旋转阴极装置和内部旋转磁棒装置，其中所述内部旋转磁棒装置包括磁棒及与所述磁棒独立连接的磁棒旋转控制装置，所述磁棒旋转控制装置连接驱动所述磁棒旋转，所述外部旋转阴极装置包括套设在所述磁棒外围的靶管及与所述靶管相连接的靶管旋转控制装置，所述靶管旋转控制装置连接驱动所述靶管旋转。本实用新型的优点是：1)在旋转阴极结构中加入了磁棒的旋转，实现靶材的保护及成膜均匀性的控制；2)成膜工艺变得更加灵活；3)有效的解决了平行于阴极方向有曲度的工件的膜层的均匀沉积问题；4)有效的解决了预溅射问题。
基本信息
专利标题 ：
一种可适时调节磁场角度的孪生旋转溅射阴极装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021643957.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-10
授权号 ：
CN212316234U
授权日 ：
2021-01-08
发明人 ：
靳伟陈建飞董黄华
申请人 ：
光驰科技（上海）有限公司
申请人地址 ：
上海市宝山区宝山城市工业园区城银路267号
代理机构 ：
上海申蒙商标专利代理有限公司
代理人 ：
周宇凡
优先权 ：
CN202021643957.5
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2021-01-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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