一种多弧离子镀阴极装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种多弧离子镀阴极装置，包括用于安装多弧离子镀阴极装置的真空腔体装置和多弧阴极电源，多弧阴极体通过多弧阴极底座安装于真空腔体装置内；多弧阴极体与辅助阳极板通过绝缘支撑柱固定连接；凹型矩形靶固定在多弧阴极体上；电磁铁设置有多个，且均匀排布于多弧阴极体底座上；多弧阴极底座的两端安装绝缘密封电极，多弧阴极底座一端安装引弧装置；绝缘密封电极分别与多个电磁铁连接；控制系统调节多个电磁铁线圈的电流幅值。本实用新型提供了一种多弧离子镀阴极装置，通过计算机对磁场进行智能控制，使镀膜更加均匀致密，提高镀膜层均匀性和镀膜效率。
基本信息
专利标题 ：
一种多弧离子镀阴极装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920596788.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-28
授权号 ：
CN210341041U
授权日 ：
2020-04-17
发明人 ：
崔岸黄显晴刘天赐杨伟丽徐晓倩孙文龙郝裕兴
申请人 ：
吉林大学
申请人地址 ：
吉林省长春市人民大街5988号
代理机构 ：
北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
李冉
优先权 ：
CN201920596788.5
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2020-04-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
