离子镀膜装置
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
摘要
一种离子镀膜装置，在真空容器钟罩１１内，设置可将指定数量的蒸发材料１５供给至规定位置处的送料器３０、３１，同时，至少送料器３０、３１的滑板部３２、３３构造成可退避至蒸发物质的蒸发路径之外，无须打开门１８，即能可靠地将指定数量的蒸发材料１５供给到钟罩１１内规定的位置上，使送料器的滑板部３２、３３退避至蒸发物质的蒸发路径之外，从而防止蒸发物质被遮蔽，在被处理物上形成厚度与色调均匀的薄膜。
基本信息
专利标题 ：
离子镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1077501A
申请号 ：
CN93104012.4
公开（公告）日 ：
1993-10-20
申请日 ：
1993-04-03
授权号 ：
CN1044011C
授权日 ：
1999-07-07
发明人 ：
河宫秀夫榎本贡
申请人 ：
西铁城钟表株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
上海专利商标事务所
代理人 ：
竹民
优先权 ：
CN93104012.4
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2009-06-03 ：
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2007-12-26 ：
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
变更事项 : 专利权人
变更前 : 西铁城钟表株式会社
变更后 : 西铁城控股株式会社
变更事项 : 地址
变更前 : 日本东京
变更后 : 日本东京都
变更前 : 西铁城钟表株式会社
变更后 : 西铁城控股株式会社
变更事项 : 地址
变更前 : 日本东京
变更后 : 日本东京都
1999-11-17 ：
发明专利说明书更正
更正卷 : 15
号 : 27
页码 : 扉页
更正项目 : 发明人
误 : 河宫秀夫 槺竟?/TD>
正 : 篠宫秀夫 槺竟?/TD>
号 : 27
页码 : 扉页
更正项目 : 发明人
误 : 河宫秀夫 槺竟?/TD>
正 : 篠宫秀夫 槺竟?/TD>
1999-07-07 ：
授权
1995-07-19 ：
实质审查请求的生效
1993-10-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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