磁控电弧离子镀膜法
专利申请的视为撤回
摘要
本发明应用磁控电弧离子镀膜装置，以磁场控制的电弧燃烧使各种金属、合金等镀膜材料蒸发，电离，变成高能量、高密度的等离子体，在工件负偏压的条件下，与通入的氧气、乙炔气等反应，可在金属或非金属工件上产生不同颜色的金属或化合物薄膜沉积。本发明可镀工件范围广，特别是用于工艺品镀膜，色彩鲜艳，耐用抗磨，成本低，生产效率高，有广泛的使用领域。
基本信息
专利标题 ：
磁控电弧离子镀膜法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1043961A
申请号 ：
CN89105513.4
公开（公告）日 ：
1990-07-18
申请日 ：
1989-08-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
田大准周以仁汪小平田羌风
申请人 ：
机械电子工业部北京机械工业自动化研究所
申请人地址 ：
北京市西城区百万庄南里一号
代理机构 ：
机械电子工业部机械专利服务中心
代理人 ：
杨涵影
优先权 ：
CN89105513.4
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
1993-01-27 ：
专利申请的视为撤回
1990-07-18 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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