一种电弧离子镀引弧装置
专利申请权、专利权的转移
摘要

本实用新型属于电弧离子镀技术领域,具体涉及一种电弧离子镀引弧装置,包括引弧杆、引弧针、直线驱动装置、支架;直线驱动装置固定在支架上;引弧杆一端与直线驱动装置相连,引弧杆穿过支架且与支架密封配合,引弧杆另一端与引弧针相连接;支架上固定有接电柱,接电柱端部与引弧杆表面相接触;引弧杆与接电柱端部相接触的表面具有接电区和绝缘区,随直线驱动装置驱动引弧杆沿其轴向方向往返运动,引弧杆的电流闭合/断开。本实用新型可避免引弧装置作为阳极,减少大量电子受电场影响轰击引弧针前端所造成的加热老化现象。

基本信息
专利标题 :
一种电弧离子镀引弧装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020821844.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-05-15
授权号 :
CN212505042U
授权日 :
2021-02-09
发明人 :
朱豪威郎文昌赵嘉豪钟一骅
申请人 :
温州职业技术学院
申请人地址 :
浙江省温州市瓯海区东方南路38号温州市国家大学科技园孵化器
代理机构 :
温州名创知识产权代理有限公司
代理人 :
程嘉炜
优先权 :
CN202020821844.3
主分类号 :
C23C14/32
IPC分类号 :
C23C14/32  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法;蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2022-01-25 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : C23C 14/32
登记生效日 : 20220113
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 温州职业技术学院
变更后权利人 : 贝普医疗科技股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 325000 浙江省温州市瓯海区东方南路38号温州市国家大学科技园孵化器
变更后权利人 : 325000 浙江省温州市龙湾区永兴街道兴吉路14号
2021-02-09 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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