离子镀膜用高压单脉冲引弧装置
专利权的终止专利权有效期届满
摘要
本实用新型属于电气装置，它所公开的一种用于引燃离子镀膜机阴阳极之间直流电弧的高压单脉冲引弧装置有两个特点：第一，能产生高压单脉冲，用于引燃离子镀膜机阴阳极之间的直流电弧；第二，整个引弧装置是附加在离子镀膜机主弧电源的输出端，利用主弧电源的空载输出电压供电，这样就使得离子镀膜机的主弧电源兼有引弧的功能，能完全省去一台单独的引弧电源。
基本信息
专利标题 ：
离子镀膜用高压单脉冲引弧装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN86201021.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
1986-02-21
授权号 ：
CN86201021U
授权日 ：
1986-11-05
发明人 ：
游本章黄经筒
申请人 ：
中国科学院电工研究所
申请人地址 ：
北京市海淀区中关村
代理机构 ：
中国科学院专利事务所
代理人 ：
方国成
优先权 ：
CN86201021.7
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
1992-01-01 ：
专利权的终止专利权有效期届满
1987-05-20 ：
授权
1986-11-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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