磁控多弧镀膜机
授权
摘要
本实用新型公开了一种磁控多弧镀膜机，其技术方案要点是包括底座、镀膜室、密封门、竖直设置在镀膜室中的转轴、固定连接在转轴上的两转盘、设置在两转盘之间的若干转动杆、围绕转动杆均匀分布的冷却杆、固定连接在镀膜室底板顶部的环形块、固定连接在转动杆底部的齿轮、固定连接在转动杆外周上的若干挂钩、转动连接在转轴顶部一端的进水管、转动连接在转轴底部一端的出水管以及固定连接在镀膜室上的电机，工件温度较高的时候，停止镀膜，通过围绕在转动杆外侧的冷却杆对钩挂在转动杆外侧的工件进行冷却，使得工件能够在短时间内快速冷却，冷却完毕之后继续进行镀膜，使得镀膜工艺更加稳定，保证了最终的镀膜效果。
基本信息
专利标题 ：
磁控多弧镀膜机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921189336.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-26
授权号 ：
CN210560714U
授权日 ：
2020-05-19
发明人 ：
傅志坚
申请人 ：
青岛华磊真空镀膜有限公司
申请人地址 ：
山东省青岛市即墨市北安办事处刘家后戈庄村
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921189336.1
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/50
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-05-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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