本发明公开一种真空磁控镀膜生产线及其镀膜方法，真空磁控镀膜生产线包括依次连通的进口室、进口缓冲室、进口过渡室、AR层镀膜室、ITO层镀膜室、出口过渡室、出口缓冲室以及出片室，形成连通的直线通道，真空磁控镀膜生产线还包括基片传送机构以及溅射阴极，基片传送机构用于将待镀膜的基片在直线通道内进行传送，基片传送机构包括多个依次布置在直线通道内的基片框架，相邻基片框架之间设有连接结构以使多个基片框架的表面位于同一平面上。本发明提供的真空磁控镀膜生产线通过设置连接结构令多个基片框架的表面位于同一平面上，基片能够十分平稳地流经各室，以确保不会出现基片抖动的现象。