一种非平衡磁场的高能脉冲磁控镀膜机及其制作加工工艺
授权
摘要
本发明提供一种非平衡磁场的高能脉冲磁控镀膜机，包括镀膜腔室以及安装在镀膜腔室内的转盘、安装治具、磁控阴极组件和离子源；所述安装治具固定在转盘上方；所述磁控阴极组件设置至少一组；每组所述磁控阴极组件分别包过若干个位于转盘外周的磁控阴极；相邻的所述磁控阴极之间的磁场闭合；所述离子源与磁控阴极耦合，在镀膜工艺中，在镀膜前，先对材料进行四次刻蚀，本设计可以提高产品的离化率以及改变材料的显微晶结构，镀膜效果好。
基本信息
专利标题 ：
一种非平衡磁场的高能脉冲磁控镀膜机及其制作加工工艺
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112522672A
申请号 ：
CN202011295338.6
公开（公告）日 ：
2021-03-19
申请日 ：
2020-11-18
授权号 ：
CN112522672B
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
林海天胡致富李立升
申请人 ：
东莞市华升真空镀膜科技有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市大岭山镇百花洞马山庙路2号5栋401室、501室
代理机构 ：
东莞市奥丰知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
田小红
优先权 ：
CN202011295338.6
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2022-05-17 ：
授权
2021-04-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/35
申请日 : 20201118
申请日 : 20201118
2021-03-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
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