一种中心进气的电弧离子镀装置

专利申请权、专利权的转移

摘要

本实用新型属于涉及电弧离子镀技术关键部件阴极弧源装备领域，具体涉及一种中心进气的电弧离子镀装置，包括阴极盖和阴极座，所述阴极盖和阴极座相连接形成阴极组件，所述阴极座远离阴极盖的一侧表面上设有靶材安装部，所述靶材安装部上连接有靶材，所述靶材中心处设有第一通孔，所述阴极座上设有连通第一通孔的第二通孔，所述阴极盖上设有连通第二通孔的第三通孔，所述第一通孔、第二通孔、第三通孔形成进气管路。本实用新型采用中心通气实现工艺气体从靶材中心进入，增大沉积化合物相的能量，优化涂层结构，降低弧光放电的熔池大小，抑制大颗粒的产生。

基本信息

专利标题：

一种中心进气的电弧离子镀装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021516573.7

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-07-28

授权号：

CN213113472U

授权日：

2021-05-04

发明人：

郎文昌刘伟陈智杰黄志宏

申请人：

温州职业技术学院

申请人地址：

浙江省温州市瓯海区东方南路38号温州市国家大学科技园孵化器

代理机构：

温州名创知识产权代理有限公司

代理人：

朱海晓

优先权：

CN202021516573.7

主分类号：

C23C14/32

IPC分类号：

C23C14/32