旋转磁控柱状阴极电弧源
专利权的终止专利权的主动放弃
摘要
本发明是一种旋转磁控柱状阴极电弧源，由管状靶材、安装在管内的数根条形磁钢以及安装磁钢的辅件、冷却水管、磁钢旋转电机组成，条形磁钢与柱状弧源的轴线平行，相邻两条磁钢的极性相反，磁钢在电机带动下沿柱弧源的轴线做整体旋转运动。当引弧针引燃柱弧放电后，阴极电弧弧斑呈平行于柱弧源轴线的细长光斑，并沿管状靶材表面扫描，镀膜均匀区大、靶材烧蚀均匀、靶材利用率高、镀膜机结构简单、操作简便。比柱状磁控溅射靶的沉积速率大、金属离化率高、易于反应沉积氮化钛等化合物涂层。适用于真空离子镀膜和离子渗金属领域。
基本信息
专利标题 ：
旋转磁控柱状阴极电弧源
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1139158A
申请号 ：
CN94102867.4
公开（公告）日 ：
1997-01-01
申请日 ：
1994-03-26
授权号 ：
CN1040234C
授权日 ：
1998-10-14
发明人 ：
侯彤
申请人 ：
王福贞
申请人地址 ：
100027北京市朝阳区新源亍7号楼3门401
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN94102867.4
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2003-05-21 ：
专利权的终止专利权的主动放弃
1998-10-14 ：
授权
1997-01-01 ：
公开
1996-11-27 ：
实质审查请求的生效
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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