新型电磁控阴极电弧源
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明是一种新型电磁控阴极电弧源，应用于真空镀膜。离子镀膜、离子渗金属领域的设备中，其特征在于控制电磁线圈的排布方式，在放电过程中不断改变线圈电流的方向和大小，在靶面产生的磁感应强度在10°-10-ZT范围变化，阴极电弧弧斑在靶面上由小环到大环周期变化。靶材烧蚀均匀，靶材利用率高。
基本信息
专利标题 ：
新型电磁控阴极电弧源
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1054451A
申请号 ：
CN90100946.6
公开（公告）日 ：
1991-09-11
申请日 ：
1990-02-27
授权号 ：
CN1021062C
授权日 ：
1993-06-02
发明人 ：
王福贞袁哲唐希源周友苏张树林程永清
申请人 ：
北京联合大学机械工程学院
申请人地址 ：
100020北京市朝阳区白家庄西里
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN90100946.6
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
1998-04-22 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1993-06-02 ：
授权
1991-09-11 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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