一种离子镀膜装置
专利权的终止
摘要

本实用新型提供一种离子镀膜装置,包括离子镀膜反应箱,支撑柱,固定底座板,L型角板,置物横板,可调节支撑的阴极夹座板结构,可加热的离子发生阳极坩埚结构,可放大观察的镀膜防护门结构,真空泵,加热固定座,加热棒,氧气补充管,补氧控制阀,抽气管和磁铁块。本实用新型收纳螺纹管,顶紧螺栓和支撑螺杆的设置,有利于根据镀膜工件的不同进行高度的调节,从而调节阴极固定座的高度,满足镀膜的需要;阴极固定座,加热丝,离子离散发生网板和阳极棒的设置,有利于对用于镀膜的离子原料进行加热产生离子,提高镀膜的效率;氧气补充管和补氧控制阀的设置,有利于进行通气补充氧气,增加镀膜的牢固度。

基本信息
专利标题 :
一种离子镀膜装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920612368.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-04-30
授权号 :
CN210030875U
授权日 :
2020-02-07
发明人 :
黄先锋陈杰
申请人 :
天津欧亚西斯金属制品有限公司
申请人地址 :
天津市北辰区小淀镇刘安庄工业区佳景道18号
代理机构 :
北京久维律师事务所
代理人 :
邢江峰
优先权 :
CN201920612368.1
主分类号 :
C23C14/32
IPC分类号 :
C23C14/32  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法;蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2022-04-08 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C23C 14/32
申请日 : 20190430
授权公告日 : 20200207
终止日期 : 20210430
2020-02-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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