等离子体加速器法离子镀膜装置
专利权的终止专利权有效期届满
摘要
一种等离子体加速器法离子镀膜装置，属于物理汽相沉积技术。本实用新型注重霍耳加速器效应的使用，加速器中带有圆柱状永久磁铁，永久磁铁与屏蔽相匹配，因此产生的电离蒸汽质量高、加速合理、镀膜效果好，改变了现有技术液滴微团多、加速和镀膜效果较低的现状。可用于仿金装饰、工模具硬化等领域。
基本信息
专利标题 ：
等离子体加速器法离子镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN89200444.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
1989-01-14
授权号 ：
CN2042082U
授权日 ：
1989-08-02
发明人 ：
王殿儒
申请人 ：
北京长城钛金技术联合开发公司
申请人地址 ：
北京市海淀区白石桥路7号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN89200444.4
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
1997-07-23 ：
专利权的终止专利权有效期届满
1994-03-23 ：
专利权有效期的续展(依据修改前的专利法第45条)
1990-03-14 ：
授权
1989-08-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN2042082U.PDF
PDF下载
