一种等离子体镀膜机
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摘要
本实用新型涉及一种等离子体镀膜机，该等离子体镀膜机，包括八角形筒状机体，其侧部沿周向均匀设有八个功能面板，八个功能面板和八角形筒状机体能够围成一用于镀膜的真空腔室，八个功能面板两两正对以形成四组功能面板，其中，第一组功能面板为两个正对的分别带有外控磁场的板式PVD镀膜源，第二组功能面板为射频发射的电感耦合等离子体源和与其正对的等离子体参数测量窗，第三组功能面板为两个正对的分别带有外控磁场的直流电弧溅射靶源，第四组功能面板为抽气面板和与其正对的观察窗。该等离子体镀膜机，设置了八个功能面板，可以使等离子体镀膜腔室结构更合理、功能最全、效率更高，实现被镀材料多种等离子体参数膜及等离子体参数的准确控制。
基本信息
专利标题 ：
一种等离子体镀膜机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202220041227.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2022-01-07
授权号 ：
CN216614827U
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
王守国
申请人 ：
齐鲁工业大学
申请人地址 ：
山东省济南市长清区大学路3501号
代理机构 ：
济南鲁科专利代理有限公司
代理人 ：
商福全
优先权 ：
CN202220041227.0
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/32 C23C16/505 C23C14/54 C23C16/52
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2022-05-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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