真空离子镀膜设备的阴极体座的保护装置
授权
摘要

本实用新型属于一种真空离子镀膜设备的阴极体座的保护装置,包括阴极体座(1),其特征是在阴极体座(1)上设有止口凹槽(1‑1),在止口凹槽(1‑1)旁边设有螺纹(1‑2),在阴极体座(1)上的止口凹槽(1‑1)内安装耐高温绝缘陶瓷环(2),螺纹(1‑2)上安装镀膜靶材(3),因为耐高温绝缘陶瓷环(2)不导电,弧光则不会越过耐高温绝缘陶瓷环(2)去刻蚀阴极体座(1),从而有效的保护阴极体座(1),该实用新型结构简单,节约成本,适用于多种阴极体,不仅可以保护阴极体座,还可提高膜层的纯度与使用寿命。

基本信息
专利标题 :
真空离子镀膜设备的阴极体座的保护装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922340599.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-24
授权号 :
CN211227312U
授权日 :
2020-08-11
发明人 :
高琳王俊波白春阳
申请人 :
大连金泰正新科技有限公司
申请人地址 :
辽宁省大连市开发区辽河西路155栋-B-3-2号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201922340599.4
主分类号 :
C23C14/32
IPC分类号 :
C23C14/32  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法;蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2020-08-11 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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