真空离子镀膜设备的阴极体座的保护装置
授权
摘要
本实用新型属于一种真空离子镀膜设备的阴极体座的保护装置，包括阴极体座（1），其特征是在阴极体座（1）上设有止口凹槽（1‑1），在止口凹槽（1‑1）旁边设有螺纹（1‑2），在阴极体座（1）上的止口凹槽（1‑1）内安装耐高温绝缘陶瓷环（2），螺纹（1‑2）上安装镀膜靶材（3），因为耐高温绝缘陶瓷环（2）不导电，弧光则不会越过耐高温绝缘陶瓷环（2）去刻蚀阴极体座（1），从而有效的保护阴极体座（1），该实用新型结构简单，节约成本，适用于多种阴极体，不仅可以保护阴极体座，还可提高膜层的纯度与使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
真空离子镀膜设备的阴极体座的保护装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922340599.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-24
授权号 ：
CN211227312U
授权日 ：
2020-08-11
发明人 ：
高琳王俊波白春阳
申请人 ：
大连金泰正新科技有限公司
申请人地址 ：
辽宁省大连市开发区辽河西路155栋-B-3-2号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201922340599.4
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2020-08-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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