靶材溅射镀膜设备自动除尘上料装置
授权
摘要
本实用新型提供靶材溅射镀膜设备自动除尘上料装置，属于除尘上料技术领域，该靶材溅射镀膜设备自动除尘上料装置包括固定座，所述固定座顶部外壁开有放置槽，且固定座靠近放置槽的顶部圆周外壁通过密封条固定有透明防尘罩，所述透明防尘罩顶部圆周外壁焊接有连接片，连接片顶部外壁开有限位孔，固定座靠近透明防尘罩两侧的顶部外壁均开有卡槽，所述固定座顶部一侧外壁通过铰链合页铰接有密封盖，且密封盖底部两侧外壁均焊接有卡条，密封盖顶部圆心外壁开有吸附孔，吸附孔的圆周内壁刻有等距离分布的螺纹。本实用新型有利于对靶材表面的灰尘进行清除，提高了靶材溅射镀膜的质量，同时提高了靶材固定于放置槽内的稳固效果。
基本信息
专利标题 ：
靶材溅射镀膜设备自动除尘上料装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020476180.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-03
授权号 ：
CN211897095U
授权日 ：
2020-11-10
发明人 ：
杨海成向青波米县稳
申请人 ：
东莞耀捷镀膜科技有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市长安镇乌沙社区第六工业区海滨路7号4楼
代理机构 ：
深圳市兴科达知识产权代理有限公司
代理人 ：
方玉叶
优先权 ：
CN202020476180.1
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/56
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-11-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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