锂合金靶材及其制备方法与应用
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摘要
本发明涉及一种锂合金靶材及其制备方法与应用，该锂合金靶材的制备方法中，通过在靶管的外壁设置凹陷部或纹路可增加靶管表面与熔融反应液的接触面积，并使得混合液冷却收缩时的应力释放首先出现在凹处部分，从而使混合液在冷却过程中与靶管能够紧密贴合，得到品质优异的锂合金靶材。该锂合金靶材能对电极材料进行有效的补锂，从而解决锂离子电池体积膨胀的问题，并提高锂离子电池的循环使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
锂合金靶材及其制备方法与应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111519141A
申请号 ：
CN202010238538.1
公开（公告）日 ：
2020-08-11
申请日 ：
2020-03-30
授权号 ：
CN111519141B
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
张艳芳谭志虞文韬
申请人 ：
维达力实业（深圳）有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙岗区坂田街道雅园路3号3楼、4楼、5楼、6楼的1、2、3、4层
代理机构 ：
广州华进联合专利商标代理有限公司
代理人 ：
单骁越
优先权 ：
CN202010238538.1
主分类号 ：
C23C14/14
IPC分类号 ：
C23C14/14 C23C14/35 B22D19/00 H01M4/04 H01M4/1395 H01M4/36 H01M4/38 H01M10/0525
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IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
C23C14/14
金属材料、硼或硅
法律状态
2022-05-27 ：
授权
2020-09-04 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/14
申请日 : 20200330
申请日 : 20200330
2020-08-11 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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