高钪含量铝钪合金靶材及其制备方法
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摘要
本发明公开了一种高钪含量铝钪合金靶材及其制备方法。其中方法包括：选取金属铝和金属钪，并配料；将金属钪熔化，然后将金属铝分多次逐步加入到金属钪中熔炼，多次熔炼后冷却得到铝钪合金；将所述铝钪合金进行球磨，真空干燥得到合金粉，然后经预压制和真空烧结得到铝钪合金靶坯；将得到的铝钪合金靶坯进行热变形加工，得到铝钪合金靶材，所述热变形加工包括热锻、热轧、以及精加工。采用本发明使得铝钪合金靶材组织和化学成分更均匀，相对密度更高，达到99.0％以上，晶粒尺寸更细小，延展性更高；采用本发明还减少了缩孔、疏松缺陷；节省了原料成本；解决了合金脆性大，不能加工靶材的难题；可满足大规模集成电路用配线材料的需求。
基本信息
专利标题 ：
高钪含量铝钪合金靶材及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111455327A
申请号 ：
CN201910728801.2
公开（公告）日 ：
2020-07-28
申请日 ：
2019-08-08
授权号 ：
CN111455327B
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
刘华黄美松樊玉川王志坚贾帅广傅臻姚茂海杨露辉
申请人 ：
湖南稀土金属材料研究院
申请人地址 ：
湖南省长沙市芙蓉区隆平高科技园隆园二路108号
代理机构 ：
北京鸿元知识产权代理有限公司
代理人 ：
曹素云
优先权 ：
CN201910728801.2
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 B22F3/02 B22F3/10 B22F3/17 B22F3/18 B22F3/24 C22C21/00 C22C28/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2022-04-12 ：
授权
2020-08-21 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/34
申请日 : 20190808
申请日 : 20190808
2020-07-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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