一种旋转靶材绑定装置
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摘要

本实用新型属于旋转靶材技术领域,且公开了一种旋转靶材绑定装置,包括底座,所述底座的顶部安装有支撑架,所述支撑架的外侧固定有控制器,且支撑架的内侧顶端安装有第一液压缸,所述第一液压缸的底部通过液压杆固定连接有真空吸盘,所述支撑架的内侧侧壁安装有导轨,所述导轨远离支撑架的一侧上方固定有电动伸缩杆,所述电动伸缩杆的底部安装有连接块,本实用新型通过电动伸缩杆带动连接块升降,使连接块带动活动块在第二滑槽内滑动,从而使涂胶器能够平缓的上下移动,之后通过第二液压缸带动涂胶器沿水平方向移动,从而使涂胶器左右移动,进而便于涂胶器对旋转靶材与绑定基板的表面进行涂胶。

基本信息
专利标题 :
一种旋转靶材绑定装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921672006.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-09-29
授权号 :
CN210560716U
授权日 :
2020-05-19
发明人 :
胡茂横
申请人 :
深圳恒泰克科技有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市坪山区坑梓街道办事处秀新社区锦绣中路14号深福保现代光学厂区一期厂房103C区
代理机构 :
深圳市中科创为专利代理有限公司
代理人 :
彭西洋
优先权 :
CN201921672006.8
主分类号 :
C23C14/35
IPC分类号 :
C23C14/35  C23C14/32  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的,例如磁控溅射
法律状态
2020-05-19 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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