一种靶材绑定检测系统以及靶材绑定检测装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种靶材绑定检测系统以及装置，其中，该装置包括控制单元、与控制单元连接的输送控制单元和防溢出单元；输送控制单元响应控制单元发出的绑定控制指令控制输送装置由下至上输送液态绑定材料至填充腔中；防溢出单元检测填充至填充腔中的液态绑定材料的液面是否升至最高靶材的平面，并当液面升至最高靶材平面时产生一防溢出信号，使控制单元响应防溢出信号控制输送控制单元停止驱动输送装置向填充腔中输送液态绑定材料。通过本实用新型，由下至上导入绑定材料使得填充均匀，同时能够确保绑定充分的同时防止绑定填充材料的浪费、以及填充液溢出造成的靶材污染。
基本信息
专利标题 ：
一种靶材绑定检测系统以及靶材绑定检测装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921178857.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-25
授权号 ：
CN210826331U
授权日 ：
2020-06-23
发明人 ：
郭宜煌陈维郭经军李丹
申请人 ：
安捷睿（厦门）机器人有限公司
申请人地址 ：
福建省厦门市火炬高新区创业园创业大厦506B室
代理机构 ：
深圳市达文创新知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
芮爽
优先权 ：
CN201921178857.7
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/32 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-06-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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