一种镀膜用水冷磁控溅射靶组件
授权
摘要
本实用新型公开了一种镀膜用水冷磁控溅射靶组件，包括：固定座和板状靶材，所述板状靶材沿固定座长度方向平行设置在固定座的正面，所述板状靶材背面对称设置有靠近边缘的滑槽，所述固定座上设置有延伸至滑槽中的条形滑块，所述条形滑块中沿长度方向设置有冷却水孔，所述板状靶材侧面设置有指向条形滑块的紧固螺钉。通过上述方式，本实用新型所述的镀膜用水冷磁控溅射靶组件，特别在固定座上设计了条形滑块，既方便了对板状靶材的限位及冷却水孔的加工，又不增加整体的厚度，冷却水孔与冷却水循环管路连接后，通入冷却水，实现条形滑块和固定座的冷却，进而实现板状靶材的降温，而且板状靶材的安装和拆卸比较便利。
基本信息
专利标题 ：
一种镀膜用水冷磁控溅射靶组件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921141209.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-19
授权号 ：
CN210215526U
授权日 ：
2020-03-31
发明人 ：
朱杰
申请人 ：
张家港市和瑞创先智能光学有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市张家港市常阴沙现代农业示范园区常红路5号
代理机构 ：
苏州广正知识产权代理有限公司
代理人 ：
李猛
优先权 ：
CN201921141209.4
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C03C17/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-03-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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