本实用新型公开了一种四磁道磁钢组件及磁控溅射镀膜设备，属于镀膜设备领域。该四磁道磁钢组件包括磁轭和固定管，所述的磁轭和固定管之间连接有用于调节磁轭与固定管间距的调节组件，所述的磁轭上依次设有第一磁铁、第二磁铁、第三磁铁和第四磁铁，所述的第一磁铁与第二磁铁的同一侧磁极相反，所述的第四磁铁与第三磁铁的同一侧磁极相反，所述的第二磁铁与第三磁铁的同一侧磁极相同。本实用新型将上述四磁道磁钢组件应用在磁控溅射镀膜设备中，可以在真空磁控溅射过程中，使靶材所产生的等离子体区间变宽，以及使靶材所产生的等离子体的动能变强，从而可以使等离子体的沉积速率加快，满足高沉积效率的要求，以满足不同镀膜膜厚的要求。