一种五磁道磁钢组件及磁控溅射镀膜设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种五磁道磁钢组件及磁控溅射镀膜设备，属于镀膜设备领域。该磁钢组件包括磁轭和固定管，所述的磁轭和固定管之间连接有用于调节磁轭与固定管间距的调节组件，所述的磁轭上依次设有第一磁铁、第二磁铁、第三磁铁、第四磁铁和第五磁铁，所述的第一磁铁、第三磁铁与第五磁铁的同一侧磁极相同，所述的第二磁铁与第四磁铁的同一侧磁极相同，所述的第三磁铁与第二磁铁的同一侧磁极相反。本实用新型将上述磁钢组件应用在磁控溅射镀膜设备中，可以在真空磁控溅射过程中，使靶材所产生的等离子体区间变宽，以及使靶材所产生的等离子体的动能变强，从而可以使等离子体的沉积速率加快，满足高沉积效率的要求，以达到提高镀膜效率的目的。
基本信息
专利标题 ：
一种五磁道磁钢组件及磁控溅射镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920849167.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-06
授权号 ：
CN210481502U
授权日 ：
2020-05-08
发明人 ：
朱世元闫乃明
申请人 ：
深圳市金耀玻璃机械有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区福永街道和平和泰工业区第1幢第一层A
代理机构 ：
深圳力拓知识产权代理有限公司
代理人 ：
龚健
优先权 ：
CN201920849167.3
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-05-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
