一种平面溅射靶材
授权
摘要
本实用新型属于溅射镀膜技术领域，尤其为一种平面溅射靶材，包括主板、固定孔和滑道，所述主板的下方固定有延伸板，所述固定孔的上方安置有限位块，所述滑道的内部固定有限位块，所述安装板的内部安置有固定机构，所述主板的后方固定有背板，且背板的表面设置有水槽。该平面溅射靶材，背板中设置了水槽，主要用于使用时进行水循环降温，溅射镀膜过程中，靶材处于高温环境中，为了对所述靶材进行降温，通常采用持续的高压冷却水冲击，背板，高压冷却水在靶材与背板间造成较大的压力差，因此要求靶材与背板具有较强的焊接牢固度，本专利背板设置水循环装置，避免了高压冷却水冲击背板造成的损害，提升了靶材的使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
一种平面溅射靶材
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020717939.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-06
授权号 ：
CN211972432U
授权日 ：
2020-11-20
发明人 ：
杨小岗
申请人 ：
陕西欧凯利靶材股份有限公司
申请人地址 ：
陕西省宝鸡市高新开发区八鱼镇姬家殿村八组
代理机构 ：
西安知诚思迈知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
麦春明
优先权 ：
CN202020717939.0
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2020-11-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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