一种连续溅射镀膜设备抽除水气装置
授权
摘要
本实用新型涉及连续溅射镀膜设备技术领域，尤其涉及一种连续溅射镀膜设备抽除水气装置，包括冷阱盘管，冷阱盘管布置在冷阱室内且与深冷泵连接，冷阱室通过冷阱室高真空阀门与工艺室连通，深冷泵依据冷阱室高真空阀门的启闭切换冷阱盘管除霜或制冷，冷阱室与冷阱室真空泵相连。本实用新型的优点是：避免除霜过程中产生的水汽等污染工艺室中的靶材；除霜过程和工艺室中的搬送过程相互独立；缩短工艺室到达本底真空所需的时间；减少工艺室中水气的分压，提高光学薄膜质量；深冷泵、冷阱盘管除霜不影响工艺室真空，能连续抽除工艺室中的水气；工艺室到达本底真空的时间减少50%到75%。
基本信息
专利标题 ：
一种连续溅射镀膜设备抽除水气装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920799169.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-30
授权号 ：
CN210134160U
授权日 ：
2020-03-10
发明人 ：
余龙马淑莹
申请人 ：
光驰科技（上海）有限公司
申请人地址 ：
上海市宝山区宝山城市工业园区城银路267号
代理机构 ：
上海申蒙商标专利代理有限公司
代理人 ：
周宇凡
优先权 ：
CN201920799169.6
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2020-03-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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