镀膜设备
授权
摘要
本实用新型涉及一种镀膜设备，包括依次排列的预热腔、工艺腔、用以输送镀膜基底的载板，载板包括至少两个前后相邻排列的前载板、后载板，还包括设在前述前载板后端部的遮挡结构，遮挡结构包括收起的第一状态和展开的第二状态，在预热腔和工艺腔之间设有可使遮挡结构由第一状态转为第二状态的转换结构，所述后载板前端和工艺腔远离预热腔的出口处配合设有用以将遮挡结构由第二状态恢复至第一状态的解除结构。当载板在工艺腔内处于不连续的状态时，通过上述结构将遮挡结构展开第二状态，遮挡结构可以遮挡住两个载板之间的缝隙，出口处再恢复至第一状态，避免由于靶材互镀导致的浪费，而且确保镀膜的品质，提升产品的性能与良率。
基本信息
专利标题 ：
镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122895052.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-24
授权号 ：
CN216473445U
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
钟观发吴坚蒋方丹
申请人 ：
嘉兴阿特斯技术研究院有限公司
申请人地址 ：
浙江省嘉兴市秀洲区高照街道康和路325号1号楼、2号楼
代理机构 ：
苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
段友强
优先权 ：
CN202122895052.8
主分类号 ：
C23C14/22
IPC分类号 ：
C23C14/22 C23C14/50 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
法律状态
2022-05-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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