用于镀膜设备的镀膜组件
授权
摘要
本实用新型提供一种用于一镀膜设备的镀膜组件，所述镀膜装置包括一反应腔和一支撑架，所述镀膜组件包括一单体释放源以及一等离子激发源。所述支撑架具有一支撑区以供支撑所述基材。所述单体释放源具有一释放进口以供引出一膜层形成材料进入所述反应腔。所述等离子激发源被安置以供激活所述膜层形成材料，其中所述支撑架的所述支撑区被定位于介于所述单体释放源和所述等离子激发源之间，使得所述膜层被均匀地形成于所述基材的表面，且沉积速度加快。
基本信息
专利标题 ：
用于镀膜设备的镀膜组件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021051622.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-09
授权号 ：
CN212983045U
授权日 ：
2021-04-16
发明人 ：
宗坚
申请人 ：
江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市惠山经济开发区玉祁配套区东环路182号
代理机构 ：
宁波理文知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
罗京
优先权 ：
CN202021051622.4
主分类号 ：
C23C16/513
IPC分类号 ：
C23C16/513 C23C16/455 C23C16/458
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
C23C16/513
采用等离子流
法律状态
2021-04-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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