镀膜设备
实质审查的生效
摘要
本发明公开一种镀膜设备，其包括腔体、进气装置、气环、载盘以及挡环。腔体具有镀膜区与非镀膜区。进气装置连通于腔体，其中进气装置对应于镀膜区设置，且用以将制作工艺气体引入镀膜区。气环设置于腔体内，其中气环环绕进气装置，且用以在镀膜区内形成环形气幕。载盘设置于镀膜区内，其中气环位于进气装置与载盘之间，且载盘用以承载待镀物。待镀物被环形气幕围绕。挡环设置于腔体内，且环绕载盘。挡环位于气环与载盘之间，且沿着镀膜区与非镀膜区的交界处设置。挡环具有多个穿孔。
基本信息
专利标题 ：
镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114381716A
申请号 ：
CN202110022234.6
公开（公告）日 ：
2022-04-22
申请日 ：
2021-01-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
陈冠州王庆钧黄智勇梁沐旺林义钧
申请人 ：
财团法人工业技术研究院
申请人地址 ：
中国台湾新竹县
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
陈小雯
优先权 ：
CN202110022234.6
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2022-05-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/455
申请日 : 20210108
申请日 : 20210108
2022-04-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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