本实用新型提供了一镀膜设备，其中所述镀膜设备包括一反应腔体、一气体供给部、一脉冲电源以及一支架，其中所述反应腔体具有一反应腔，其中所述气体供给部用于向所述反应腔供给气体，其中所述脉冲电源用于向所述反应腔体提供一脉冲电场，其中所述支架的至少部分被可导通地连接于所述脉冲电源以作为阴极，其中该待镀膜工件位于所述支架并且当所述脉冲电源被接通，所述气体供给部在所述反应腔体内供给的气体在电离产生等离子体并且等离子体中的正离子在脉冲电场的作用下朝向该待镀膜工件的表面沉积。